介质膜工艺监控量测机台MQL-ADCOS-300系列 - 麦峤里（上海）半导体科技有限责任公司

介质膜工艺监控量测机台MQL-ADCOS-300系列

机台介绍

量检测内容:对电介质和界面特性进行测量，对扩散长度的测量；
检测对象:氧化膜工艺后的12寸半导体晶圆/监测炉管沾污；
适用对象:集成电路自造/新材料的研发/新工艺的研发；
量测方式:采用电晕-开尔文方法进行非接触CV的量测方式，SPV方式测量表面扩散长度；
非接触式测量EOT,Dit,Qtot, Leakage, Fe浓度等。

分类：

集成电路领域产品中心

配置功能

适合12寸晶圆芯片制造；两个FIMS loadport ；
高精确的电晕放电枪；
非接触式开尔文探头；
控温载片台, 超大升温区间，实现超小TCR系数测量（可选配）；
硅片厚度原位测量（可选配置）；
可选配SECS/GEM厂务通讯协议；
先进的数据分析和处理功能。